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SK하이닉스, 모바일 D램·소재 국산화 성과로 '수펙스 추구상' 수상

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이노베이션·머티리얼즈 등 계열사와 협력···도전적 성과 인정 받아

[아이뉴스24 민혜정 기자] SK하이닉스가 모바일D램 개발과 소재 국산화를 이룬 공로로 그룹 사내 시상식에서 수상했다.

SK하이닉스는 '수펙스(SUPEX) 추구상' 시상식에서 2개 부문을 수상했다고 31일 밝혔다.

SK그룹은 30일 서울 서린동 본사에서 그룹 내 여러 멤버사 구성원들이 참석한 가운데 '수펙스 추구상' 시상식을 개최했다. 수펙스 추구상은 SK그룹 내 가장 권위 있는 상으로 새로운 도전을 두려워하지 않고, 혁신을 이뤄낸 멤버사 구성원들에게 수여된다.

'수펙스 추구상' 시상식에서 이노베이션상과 시너지상을 수상한 SK하이닉스 임직원들이 SK그룹 최태원 회장과 기념촬영을 하고 있다. [사진=SK하이닉스 ]
'수펙스 추구상' 시상식에서 이노베이션상과 시너지상을 수상한 SK하이닉스 임직원들이 SK그룹 최태원 회장과 기념촬영을 하고 있다. [사진=SK하이닉스 ]

이날 SK하이닉스는 이노베이션상과 시너지상을 받았다. '이노베이션상'은 기술혁신을 통해 그룹 내 귀감이 되는 도전과 성과를 이뤄낸 사례에, '시너지상'은 원팀으로 함께 문제를 해결해 나가는 협업을 바탕으로 성과를 이룬 사례에 주어진다.

이노베이션상 수상자는 LPDDR5 개발을 성공적으로 이끈 이상권 DRAM개발 부사장, 권언오 부사장(펠로우), 홍윤석 팀장, 조성권 팀장, 미래기술연구원 손윤익 팀장이다.

SK하이닉스는 2022년 11월 세계 최초로 모바일용 D램인 LPDDR에 HKMG(High-K Metal Gate) 공정을 도입해 성공적으로 LPDDR5X를 개발했다. 이어 올해 1월 LPDDR5X보다 동작 속도가 13% 빨라진 LPDDR5T 개발에 성공했다.

시너지상은 SK하이닉스와 SK머티리얼즈 퍼포먼스 임직원들이 공동으로 받았다. SK하이닉스에서는 반도체 공정의 핵심 소재인 극자외선 포토레지스트(EUV PR)의 국산화에 기여한 공적을 인정받은 김재현 EUV소재기술 부사장(펠로우)과 윤홍성 FAB원자재구매 부사장, 길덕신 미래기술연구원 부사장(펠로우), 손민석 팀장이 수상했다.

SK하이닉스 관계자는 "그룹 멤버사인 SK머티리얼즈 퍼포먼스와 긴밀하게 협업해 EUV PR의 국산화를 이끌며 소재 수급 정상화를 이루고, 91%에 달하던 수입 의존도를 낮춘 공로를 인정받았다"고 말했다.

/민혜정 기자(hye555@inews24.com)




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