삼성전자 '10나노' AP 양산…'갤럭시S8'부터 적용

[양태훈기자] 삼성전자가 업계 최초로 10나노미터(nm, 10억분의 1미터) 기반 로직(논리) 반도체 양산에 돌입한다. 내년 상반기 출시예정인 '갤럭시S8'을 필두로, 다양한 고객과 제품으로 확대될 예정이다.

17일 삼성전자는 지난해 1월 업계 최초로 14나노 공정 양산을 시작, 이번에는 전체 시스템 반도체 업계에서 가장 먼저 10나노 공정 양산에 돌입했다고 발표했다.

10나노 1세대 공정은 기존 14나노 1세대 대비 27% 향상된 성능과 40% 개선된 소비전력, 30% 늘어난 웨이퍼당 생산량을 제공한다.

10나노 공정 양산을 위해서는 14나노 공정보다 정교하고 미세한 회로를 그려넣는 패터닝 작업이 필요하다. 삼성전자는 기존 장비로 패터닝 과정을 3번 반복하는 '트리플패터닝' 기술을 적용, 미세공정의 한계를 극복하고 설계 유연성을 확보하는데 성공했다.

10나노 1세대(10LPE) 공정 양산을 시작으로, 성능을 향상시킨 2세대(10LPP) 공정도 내년 양산을 목표로 개발 중이다.

또 2세대 이후에도 지속적인 성능개선과 파생공정 확대를 통해 10나노 공정을 장기간 활용한다는 계획이다.

아울러 고객 및 파트너와의 협업을 통해 10나노 공정의 디자인 설계 도구를 검증, 고객들이 제품을 개발하는데 이점을 주는 제품 레벨 디자인 도구와 설계자산(IP) 디자인 도구를 제공하는 등 파운드리 에코시스템 확대에도 집중할 방침이다.

윤종식 삼성전자 시스템LSI 사업부 파운드리 사업팀장(부사장)은 "이번 10나노 로직 공정 양산으로 삼성전자의 미세 공정기술이 업계 최고 수준임을 다시 한 번 입증했다"며, "앞으로도 지속적인 기술혁신을 통해 미세 공정 기술 확보는 물론 고객에게 차별화된 반도체 솔루션을 제공해 시스템 반도체 사업을 발전시켜 나갈 것"이라고 전했다.