[김지연기자] 삼성전자가 중국 샨시성 시안시를 중국 반도체 생산라인 건설지역으로 최종 확정했다.
삼성전자는 2일 이사회를 열어 중국 시안시 고신기술산업 개발구에 들어설 반도체 신규라인 건설을 위해 자본금 23억달러를 출자하기로 결정했다고 밝혔다. 신규 법인의 회사명이나 대표자, 발행주식총수 등은 확정되지 않았다.
이번 투자는 삼성전자가 해외 반도체 생산라인에 투자하는 단일 투자 규모로는 역대 최대 규모다.
삼성전자는 건물 건설에 필요한 자금 등에 초기 23억달러를 출자하는 데 이어, 앞으로 수년 간 단계적으로 70억달러를 투자할 방침이다.
삼성전자는 시안을 최종 선정한 데 대해 "시안 주변에 삼성전자 주요 고객과 글로벌 IT기업의 생산거점, 연구 거점이 밀집돼 있다"며 "고객의 요청에 신속하고 효율적으로 대응할 수 있으며 우수인재 유치에도 유리할 것으로 기대한다"고 설명했다.
특히 시안은 중국 정부가 야심차게 추진중인 서부 대개발 정책의 전략적 요충지로 전기, 산업용수 등 산업 인프라가 잘 갖춰져 있는 곳이어서 반도체 생산라인을 건설하기에 최적이라는 평가를 받았다.
삼성전자는 세부 협상을 마무리짓는 대로 연내에 반도체 생산라인 건설에 착수하기로 했다. 이르면 내년 말부터 10나노급 낸드 플래시를 본격적으로 생산할 예정이다.
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