화웨이, ASML 독점 EUV 장비 생산에 도전…성공 가능성은 '글쎄'

[아이뉴스24 박영선 수습 기자] 화웨이가 극자외선(EUV) 반도체 장비 관련 기술 특허를 출원했다. EUV는 미세공정 반도체 생산에 쓰이는 장비다.

27일 중국 IT매체 마이드라이버스 보도에 따르면 화웨이는 최근 EUV 노광공정 관련 기술 특허를 출원했다.

화웨이가 출원한 특허에는 7나노 미만 초미세공정 반도체를 만들 때 쓰이는 EUV 반도체 장비 기술이 포함돼 있다.

현재 EUV 장비는 네덜란드 반도체 장비업체 ASML이 독점으로 생산하는 구조다. 해당 장비를 활용해 삼성전자와 TSMC가 7나노 미만 반도체를 만들고 있다.

이에 화웨이가 EUV 반도체 장비 기술 특허를 출원한 것을 두고 ASML에 대항한다는 해석이 나온다. 다만 특허가 아직 승인되지 않았고 미국이 중국 EUV 규제에 나선 만큼 EUV 장비 생산이 쉽지 않을 것이라는 분석도 나온다.

IT매체 톰스하드웨어는 "EUV 장비 상용화를 이루기 위해서는 많은 부품이 맞물려 돌아가야 하고 공급망이 촘촘히 갖춰져야 한다"고 지적했다.