삼성전자, 美 오스틴 시스템LSI 라인 풀 가동 시작

[권혁민기자] 삼성전자가 지난달부터 미국 오스틴의 시스템LSI 전용라인인 S2라인의 풀 가동에 돌입했다.

삼성전자는 지난해 8월 S2라인 건설을 시작해 계획보다 1개월 앞당겨 지난 3월 완공했다. 이어 5월부터 제품 출하를 시작해 5개월 만에 풀 가동에 들어갔다. 팹(FAB, 제조라인) 건설에 7개월, 램프 업(Ramp-up, 생산량 확대)에 5개월밖에 걸리지 않은 셈이다.

최첨단 300mm 자동화 라인으로 45나노 공정의 저전력 로직IC를 생산하는 S2라인은 월 4만장의 웨이퍼를 생산하는 능력을 확보했다.

삼성전자측은 국내 기흥캠퍼스와 미국 오스틴을 잇는 글로벌 시스템LSI 생산라인을 구축하며 고속 성장하는 시스템LSI 시장에 적극 대응할 수 있게 됐다고 설명했다.

반도체 생산라인은 높은 수준의 청정 상태와 일정한 온·습도를 유지하기 위해 제조 환경 조성에 많은 시간과 비용이 들어가기 때문에 이번 풀 가동은 의의가 크다.

삼성전자 DS사업총괄 시스템LSI사업부의 하상록 상무는 "환경이 전혀 다른 해외사업장에 단기간에 국내 생산라인과 동일한 생산체제를 구축할 수 있었던 것은 앞선 기술과 현장 임직원들의 노력 덕분"이라고 말했다.