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엘피다, 반도체 공장 대만 이전

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엔고·D램 불황 타개책…30나노 공정 도입 가속화

[안희권기자] 일본 엘피다메모리가 엔고와 D램 불황 타개책으로 생산공장 대만 이전을 15일 발표했다.

엘피다는 히로시마 공장 일부 라인을 비용 경쟁력이 높은 대만 자회사인 렉스칩에 단계적으로 이전하는 방안을 추진하기로 했다.

엘피다는 D램의 주력 생산제품을 2GB 제품에서 일부 제품을 제외하고 모두 4GB 제품으로 전환해 대용량 제품의 가격인하에 대처하기로 했다. 히로시마공장은 현행 40나노미터 제조공정을 30나노미터 제조공정으로 교체할 계획이다.

이는 생산성을 높여 비용을 절감하기 위한 것이다.

안희권기자 argon@inews24.com



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