반도체용 나노미터급 임프린팅 장비개발...기계연 이재종박사팀

반도체 공정에 적용할 수 있는 선폭 70nm(나노미터)이하의 패턴을 대량으로 생산할 수 있는 나노 임프린팅 장비가 개발됐다.

한국기계연구원 이재종 박사연구팀은 기존 장비가 갖고 있는 회절한계를 극복한 새로운 임프린팅 장비를 개발했다고 22일 밝혔다.

이 연구는 과학기술부의 21세기 프론티어 연구개발사업인 나노메카트로닉스기술개발사업단의 지원을 받았다.

이와같은 장비는 미국, 일본, 오스트리아 등 불과 몇개 기업에서만 연구개발 용도로 개발, 판매되고 있어 앞으로 시장진출 가능성이 무궁무진하다고 이재종박사는 설명했다.

이 장비의 가장 큰 장점은 칩 크기의 다중 임프린팅 유니트 부분으로 웨이퍼 형상에 따라 다르게 힘을 가할 수 있는 특징을 갖고 있다.

기계연구원은 이 장비를 통해 나노부품의 대량생산을 위한 핵심장비 기술확보로 기능성 광학부품(그레이팅 렌즈, 광학필터 등), 나노센서, 나노구조물을 갖는 나노부품 제작분야에 큰 파급효과가 기대된다고 말했다.

특히 이 연구팀은 현재 다층막 나노 임프린팅을 위한 25nm이하의 정렬기술 및 8인치 이상의 대면적에 적용할 수 있는 핵심기술을 개발하고 있어 이 기술이 개발완료되는 2008년에는 현재는 구현이 어려운 다층막 공정도 가능할 것으로 전망하고 있다.

이재종 박사는 "이 장비는 세계시장에 진출해도 충분히 경쟁력을 갖고 있다"면서 "국내는 물론 미국, 일본, 유럽 등에 특허출원해 나노장비의 핵심기술을 확보했다"고 말했다.

한편 나노 임프린팅 장비의 세계시장 규모는 2004년에는 140억원으로 예측되고 2009년에는 4천600억원이상으로 추정된다고 기계연구원은 설명했다.