디에이테크놀로지, 2차전지 관련 국내외 특허 2종 취득

[아이뉴스24 류은혁 기자] 2차전지 설비 전문 업체 디에이테크놀로지는 2차전지 관련 국내외 특허 2종을 연이어 취득했다고 17일 밝혔다.

이번에 획득한 특허명은 ▲2차전지의 셀 스택 적층 장치 및 방법 ▲전지 부품 분배장치 및 이를 갖는 2차전지 셀 제조 시스템 등이다.

2차전지의 셀 스택 적층 장치 및 방법에 관한 특허의 경우 양극판과 음극판을 교대로 적층할 때 분리막을 직접 양극판과 음극판으로 밀어서 지그재그 형태로 적층한다.

이 과정에서 분막의 양측에 배열되는 양극판과 음극판의 간격, 분리막의 하단을 상축으로 상승시키는 속도를 적절히 제어해 적층과정에서 발생할 수 있는 스크래치를 방지할 수 있다. 적층 속도 역시 기존 장비보다 향상된 것으로 알려졌다.

전지 부품 분배장치 및 이를 갖는 2차전지 셀 제조 시스템은 2차전지 셀의 전극판과 전지 부품을 지정된 복수의 공정 위치로 분배하며 연속적으로 공급할 수 있는 장치이다. 공정 진행 속도를 대폭 향상시킬 수 있으며 복수의 공정 장비를 하나로 통합하여 구성할 수 있을 것으로 기대된다.

디에이테크놀로지는 이 대표 선임 이후 지속적으로 신기술 개발 및 특허 취득에 힘을 쏟고 있다. 장 폭 셀 스태킹, 고속 NCM 장비 등을 개발했으며, 고속 레이저 노칭 장비의 경우 지난 10월 국내 글로벌 배터리 업체에 공급을 진행했다.

회사 관계자는 "신임 대표 취임 이후 특허 취득에 성공하는 등 성과를 내고 있다"며 "이미 2차전지 설비 분야에서 경쟁력을 인정받고 있는 만큼 내년부터는 본격적인 수주가 진행될 것"이라고 말했다.