SK하이닉스·도시바, 'NIL 기술 공동 개발' 본 계약 체결
2015.02.05 오후 4:48
오는 4월부터 양사 엔지니어들 협업…오는 2017년부터 제품에 적용
[양태훈기자] SK하이닉스(대표 박성욱)가 5일 일본 도시바와 나노 임프린트 리소그래피(NIL) 기술에 대한 공동 개발 본 계약을 체결했다고 발표했다.

양사는 지난해 12월 해당 건에 대한 업무협약(MOU)를 체결한 바 있으며, 이번 계약 체결을 통해 실제 개발에 착수하게 됐다고 설명했다.

양사의 NIL 공동 개발은 오는 4월부터 양사 엔지니어들의 협업으로 일본 요코하마에 있는 도시바 팹에서 진행될 예정으로, 오는 2017년 실제 제품에 적용될 예정이다.



NIL 기술은 메모리 공정이 더욱 미세화되고 있는 가운데 미세 패턴을 구현하는 데 있어 적합한 차세대 리소그래피 공정기술로 평가받고 있다.

막대한 투자가 선행돼야 하는 기존 공정기술과 비교해 경제적인 양산이 가능하다는 장점도 갖고 있다.

그동안 관련 업계에서는 공정 미세화의 한계를 극복하기 위해 극자외선(EUV) 활용 등 다양한 노력을 기울여왔으며, NIL 기술도 한계 극복을 위한 방안 중 하나로 개발돼 왔다.

SK하이닉스와 도시바는 지난 2007년 특허 상호 라이언스 계약을 체결, 2011년부터는 차세대 메모리인 'STT-M램' 공동 개발을 진행해 오고 있다.

/양태훈기자 flame@inews24.com